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硅（Si）通過 Czochralski（CZ）提拉生長，由于包含一些氧化物，導(dǎo)致9微米波段有吸收。 為了避免這種情況，可以通過Float-Zone（FZ）提拉生長材料。 光學(xué)硅一般是少量摻雜（5至40歐姆厘米）以獲得10微米以上的最佳透射率，通常摻雜是硼（P型）和磷（N型）。 摻雜之后，硅具有另一個(gè)通帶：30至100微米，其僅在非常高電阻率未補(bǔ)償材料中有效。

CZ硅通常用作1.5-8微米區(qū)域的紅外反射器和窗口的基板材料。 由于9微米的強(qiáng)吸收帶使其不適用于CO2激光傳輸應(yīng)用，但由于其高導(dǎo)熱性和低密度，它經(jīng)常用于激光反射鏡。

硅材質(zhì)主要用于加工硅窗口片，硅透鏡，應(yīng)用波段為1.5-7um。硅反射鏡用于CO2激光器和光譜儀。

硅窗口片主要規(guī)格